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文章出处:责任编辑:人气:-发表时间:2024-03-05 09:45:37【 】
四氟化碳,满足半导体的“洁癖”

四氟化碳


随着半导体行业的飞速发展,对于半导体微制造过程中的高纯度和高可靠性要求也越来

越高。而在半导体微制造过程中,清洗、刻蚀、去污等过程都是必不可少的,所以,半

导体具有无与伦比的“洁癖”,因此清洁剂也成为关键材料之一。而四氟化碳,就是一种

有效的清洁剂,在半导体行业发挥着极端重要的作用。

据国内知名特种气体公司武汉纽瑞德特种气体有限pg电子试玩网站免费的介绍,四氟化碳由于其优良的化

学性质,可以有效地清洗半导体表面,洁净度高、不产生残留物、容易挥发、不易燃等

特点,因此被广泛应用于半导体清洗过程中。

此外,在半导体制造过程中,刻蚀也是一样重要的一步。而四氟化碳可以通过高频电力

场使其成为离子,进而起到刻蚀的作用。与其他刻蚀气体相比,四氟化碳的刻蚀速度较

快,刻蚀后的表面质量较好。

在半导体生产过程中,掌握去污技术非常重要。而四氟化碳具有优异的物理和化学特性

,可以迅速完成去污任务,且无需腐蚀表面。

与传统的有机溶剂相比,四氟化碳由于其具有较高的化学活性和刻蚀性,可以加速清洁

过程的完成,减少对清洁板的腐蚀。与纯水比较,四氟化碳可以有效地清洗表面高深的

缝隙和污垢,有助于提高清洁度。

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